特許

J-GLOBAL ID：200903069205429218

基板への処理液供給装置

発明者： 中川 幸治 ,  阪井 敏哉
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-051172
公開番号（公開出願番号）：特開平7-235483
出願日： 1994年02月23日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：

【要約】【目的】 実際に基板表面に供給される処理液の供給圧や温度などのパラメータを正確に測定でき、かつ、配管先端の吐出口付近にフィルタを追加して設置しなくても、吐出口から清浄な処理液を基板表面へ吐出できるような装置を提供する。【構成】 高圧純水を供給する配管12を、吐出管32と最も吐出管寄りに配設されたフィルタ30との間で分岐させ、その分岐されたドレン配管34に圧力計36を配設した。

請求項（抜粋）：

フィルタが介挿された配管を通して送られる処理液を配管先端の吐出口から吐出し基板の表面へ供給するようにした基板への処理液供給装置において、前記配管を、前記吐出口と最も吐出口寄りに配設されたフィルタとの間で分岐させ、その分岐された分岐配管に検出計を配設したことを特徴とする基板への処理液供給装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/16 502

FI (2件)：

H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/30 569 E