特許

J-GLOBAL ID：200903069216536210

基板処理方法およびその装置

発明者： 西村 讓一 ,  大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-241657
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077293
出願日： 1998年08月27日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：

【要約】【課題】 基板処理に使われる処理液の消費量を極力少なくすることができる基板処理方法およびその装置を提供する。【解決手段】 基板を回転させながら、基板に処理液(例えば、洗浄液としての純水)を供給して基板に所要の処理を施すにあたり、処理液を基板に間欠的に供給する。基板上にある処理効果の低下した、いわば古い処理液(特に、下層の処理液)は、処理液の供給が一時的に中断している間に、基板の回転に伴って振り切られる。続いて処理液の供給が再開されることにより、基板表面に新鮮な処理液が作用するので、基板の処理効果が高められる。また、処理液の供給を間欠的に中断する分だけ、処理液の消費量が抑えられる。

請求項（抜粋）：

基板を回転させながら、基板に処理液を供給して基板に所要の処理を施す基板処理方法において、基板に処理液を供給して所要の処理を施す処理期間中に、前記処理液を基板に間欠的に供給することを特徴とする基板処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643

FI (4件)：

H01L 21/30 569 C ,  B08B 3/02 C ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 643 A

Fターム (22件)：

2H096AA25 ,  2H096GA17 ,  2H096GA30 ,  2H096GA31 ,  3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201AB47 ,  3B201BA13 ,  3B201BB23 ,  3B201BB34 ,  3B201BB44 ,  3B201BB83 ,  3B201BB90 ,  3B201BB93 ,  3B201CB12 ,  3B201CC13 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA05 ,  5F046LA14 ,  5F046LA19