特許
J-GLOBAL ID:200903069218327155

電流密度分布計測装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-049387
公開番号(公開出願番号):特開2006-234566
出願日: 2005年02月24日
公開日(公表日): 2006年09月07日
要約:
【課題】 電流密度分布を計測する計測装置において、計測精度を向上させる技術を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、測定対象の電流密度分布を計測する計測装置を提供する。この計測装置は、測定対象の所定の接触点において、接触によって導通するための複数の電極と、複数の電極に流れる電流を合流させて同一電位とする合流部と、複数の電極の各々に流れる電極電流を計測するセンサと、を備える。この計測装置は、測定対象における所定の接触点間の抵抗値である接触点間抵抗値Rbと、所定の接触点と合流部との間の合成抵抗値である回路抵抗値Rcと、計測された各電極電流と、に応じて測定対象の電流密度分布を計測することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
測定対象の電流密度分布を計測する計測装置であって、 前記測定対象の所定の接触点において、接触によって導通するための複数の電極と、 前記複数の電極に流れる電流を合流させて同一電位とする合流部と、 前記複数の電極の各々に流れる電極電流を計測するセンサと、 を備え、 前記計測装置は、前記測定対象における前記所定の接触点間の抵抗値である接触点間抵抗値Rbと、前記所定の接触点と前記合流部との間の合成抵抗値である回路抵抗値Rcと、前記計測された各電極電流と、に応じて前記測定対象の電流密度分布を計測することを特徴とする、計測装置。
IPC (2件):
G01R 19/08 ,  H01M 8/04
FI (2件):
G01R19/08 ,  H01M8/04 Z
Fターム (3件):
2G035AB03 ,  2G035AC25 ,  5H027KK56
引用特許:
出願人引用 (2件)

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