特許
J-GLOBAL ID：200903069222081632
洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-236332
公開番号（公開出願番号）：特開平5-074755
出願日： 1991年09月17日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：
【要約】【目的】半導体ウェーハー等の被洗浄物の薬液処理を行なう洗浄装置において、薬液の成分、濃度の確認、薬液の供給、追加、排液等を人の視覚判断、直接作業を必要とせず安定性が高く、効率の良い自動洗浄機を提供する。【構成】ウェーハー1を収納したカセット2を薬液処理槽3の中に浸漬する。薬液センサー14により薬液13の成分、濃度等を監視し、薬液成分計測部15により分析処理を行い、薬液13の指定成分、濃度範囲内で適正な自動処理をおこなう。薬液13は、ヒーター7により薬液温度を指定温度にコントロールされる。ヒーター7の空炊き防止のため下限液面センサー6を配置してある。液面センサー4、5、6の検知信号により薬液13の供給、追加供給、更には、排液バルブ10を作動させ薬液13の排液、供給をおこなう。又、異常に対しては即装置停止、等を自動処理し、洗浄装置の動作停止及び所定の警報を出力する。
請求項（抜粋）：
薬液中に被洗浄物を浸漬させ、この洗浄物を前記薬液によって洗浄処理することができるようにした洗浄装置において、被洗浄物を浸漬収納できる薬液槽とこの薬液槽へ新薬液を供給する事が出来る薬液供給部と前記薬液槽内の薬液の成分を分析をする薬液成分計測部と本体制御部で主構成され、この成分計測部で計測した計測値に基ずいて処理時間を制御し、かつ薬液供給量を制御する事が出来ることを特徴とする洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304 341
