特許

J-GLOBAL ID：200903069231331587

プラズマ処理装置

発明者： 本郷 俊明 ,  大沢 哲
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369311
公開番号（公開出願番号）：特開2002-170824
出願日： 2000年12月04日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】 絶縁板とこれを支持する支持枠部材との間の異常放電の発生を抑制することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 天井部が開口されて内部が真空引き可能になされた処理容器36と、前記開口の周縁部に沿って設けられると共に前記処理容器の中心方向へ突出されたリング状の支持棚部106を有する支持枠部材78と、前記支持棚部にその周縁部を支持させて前記開口を気密に覆うように設けた絶縁板80と、被処理体Wを載置するために前記処理容器内に設けられた載置台38と、前記絶縁板の上方に設けられて複数のマイクロ波放射孔からプラズマ発生用のマイクロ波を前記絶縁板を透過させて前記処理容器内へ導入する平面アンテナ部材86と、前記処理容器内へ所定のガスを導入するガス供給手段52,54とを有するプラズマ処理装置において、前記支持棚部の内周側の角部は、曲面状に成形されている。これにより、絶縁板とこれを支持する支持枠部材との間の異常放電の発生を抑制する。

請求項（抜粋）：

天井部が開口されて内部が真空引き可能になされた処理容器と、前記開口の周縁部に沿って設けられると共に前記処理容器の中心方向へ突出されたリング状の支持棚部を有する支持枠部材と、前記支持棚部にその周縁部を支持させて前記開口を気密に覆うように設けた絶縁板と、被処理体を載置するために前記処理容器内に設けられた載置台と、前記絶縁板の上方に設けられて複数のマイクロ波放射孔からプラズマ発生用のマイクロ波を前記絶縁板を透過させて前記処理容器内へ導入する平面アンテナ部材と、前記処理容器内へ所定のガスを導入するガス供給手段とを有するプラズマ処理装置において、前記支持棚部の内周側の角部は、曲面状に成形されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

H01L 21/31 C ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/511 ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B

Fターム (44件)：

4G075AA24 ,  4G075BC04 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075DA01 ,  4G075EB42 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FC15 ,  4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030AA17 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA01 ,  4K030KA10 ,  4K030KA30 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004BC08 ,  5F004BD01 ,  5F045AA09 ,  5F045AC01 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AE13 ,  5F045AE15 ,  5F045AE17 ,  5F045BB15 ,  5F045DP04 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH04 ,  5F045EJ02 ,  5F045EM05