真空処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鳥井清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-376764
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176951
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【目的】処理用のワークを供給するロードロック部と、その供給されたワークを減圧されたガス雰囲気中で所定の工程にしたがって処理する処理モジュール部と、その処理されたワークを回収するアンロードロック部とからなる真空処理装置にあって、処理モジュール部の内部を所定の条件に維持した状態のままでワークの出し入れを連続して行わせることができるようにする。【構成】ロードロック部およびアンロードロック部にそれぞれ内部を所定に減圧されたガス雰囲気にする手段をそれぞれ設け、処理モジュール部における処理の開始に先がけてロードロック部およびアンロードロック部の内部を処理モジュール部と同一に減圧されたガス雰囲気にしたうえで、ロードロック部、処理モジュール部およびアンロードロック部の各間のゲートを開けて連通状態にして、複数のワークの処理を連続して行わせるようにする。

請求項（抜粋）：

処理用の複数のワークを待機させて所定のタイミングでワークを1枚ずつ供給するロードロック部と、その供給されたワークを減圧されたガス雰囲気中で所定の工程にしたがって処理する処理モジュール部と、その処理されたワークを回収するアンロードロック部とからなる真空処理装置において、ロードロック部およびアンロードロック部にそれぞれ内部を所定に減圧されたガス雰囲気にする手段をそれぞれ設け、処理モジュール部における処理の開始に先がけてロードロック部およびアンロードロック部の内部を処理モジュール部と同一に減圧されたガス雰囲気にしたうえで、ロードロック部、処理モジュール部およびアンロードロック部の各間のゲートを開けて連通状態にして、複数のワークの処理を連続して行わせるようにしたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 , B01J 3/02 , B65G 49/00 , B65G 49/07 , H01L 21/205

FI (5件)：

H01L 21/68 A , B01J 3/02 N , B65G 49/00 A , B65G 49/07 Z , H01L 21/205

Fターム (16件)：

5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031NA04 , 5F031NA05 , 5F031NA09 , 5F031PA03 , 5F045AA06 , 5F045DQ15 , 5F045EB08 , 5F045EB09 , 5F045EG03 , 5F045EN04 , 5F045HA23

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