特許

J-GLOBAL ID：200903069256951709

シリコン酸化用水蒸気発生装置およびそれを利用したシリコン表面酸化装置

発明者： 牧川 新二 ,  城田 政明 ,  江島 正毅 ,  青井 浩 ,  大野田 忠与
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  信越エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 小宮 良雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-073478
公開番号（公開出願番号）：特開2001-332548
出願日： 2001年03月15日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】構造が簡便で安全性の高いスチーム酸化法で、熱水等が機器の部材に殆ど接触することなく、汚染のない水蒸気を効率良く発生し、シリコンの表面を厚く酸化するのに適した水蒸気発生装置とその水蒸気発生装置を利用したシリコン表面酸化装置を提供する。【解決手段】水蒸気発生装置は、チャンバ3内の面5上を流れる純水の供給口6と、面5に向けてマイクロ波を発振する発振器7と、面5から発生する水蒸気を送り出す蒸気送出口8と、面5上を流れた純水の排出口9とを有する。蒸気送出口8に加熱炉10が繋げられ、加熱炉10内に置かれたシリコン1が前記により発生する蒸気で酸化される。

請求項（抜粋）：

シリコンを酸化する加熱炉に水蒸気を送り出す装置であって、チャンバ内の面上を流れる純水の供給口と、該面に向けてマイクロ波を発振する発振器と、該面から発生する水蒸気を送り出す蒸気送出口と、該面上を流れた純水の排出口とを有することを特徴とするシリコン酸化用水蒸気発生装置。