特許

J-GLOBAL ID：200903069269764657

超純水製造装置とその方法

発明者： 小関 康雄 ,  梶 隆一 ,  橋本 信子 ,  佐藤 等 ,  滝野 和彦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立プラント建設株式会社
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-277143
公開番号（公開出願番号）：特開平6-126271
出願日： 1992年10月15日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：

【要約】【目的】 常に安定した高純度の超純水を製造できる超純水製造装置とその方法を提供する。【構成】 一次純水製造プロセスと超純水製造プロセスとからなる超純水製造装置の一次純水製造プロセスにおいて、水道水1の入口側に、従来活性炭101と、細孔径20〜1000Åの細孔を全細孔の5〜10%以上持つ高性能活性炭102と、シリカアルミナ系吸着剤103との三層からなる多層吸着装置105を、純水2の出口側に、逆浸透装置110とイオン交換装置120とを、それぞれ設置している。【効果】 これまで除去困難だった有機物を効率良く除去できるため、安定した高純度の超純水を製造できる。

請求項（抜粋）：

吸着装置、及び逆浸透装置、イオン交換装置、紫外線酸化装置、アニオン交換装置、ポリッシャー装置又は限外濾過装置のうちの少なくとも1つの処理装置からなる超純水製造装置において、前記吸着装置に分子量50〜1000の有機物を選択的に除去できる能力を持つ吸着剤を充填してなることを特徴とする超純水製造装置。

IPC (8件)：

C02F 1/28 ,  B01J 20/06 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/20 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 9/00