特許
J-GLOBAL ID：200903069270250438
洗浄剤組成物及び洗浄方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-280317
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121418
出願日： 1997年10月14日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：
【要約】【課題】固体状微粒子や油性汚れの付着した半導体基板又は半導体素子の洗浄性に優れ、かつ泡立ちの少ない洗浄剤組成物を提供すること、並びに固体状微粒子や油性汚れの付着した半導体基板又は半導体素子の洗浄性に優れ、かつ泡立ちの少ない洗浄方法を提供すること。【解決手段】特定の分子構造を有する非イオン性化合物を含有してなる、半導体基板用又は半導体素子用洗浄剤組成物、及び該洗浄剤組成物を用いて洗浄する半導体基板又は半導体素子の洗浄方法。
請求項（抜粋）：
一般式(1)【化1】(式中、R1 は水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基を示す。AOはエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを示す。Xは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基又は炭素原子数1〜4のアシル基を示す。nは0〜2の整数を示す。mは1〜8の整数を示す。)で示される化合物、及び/又は一般式(2)R2 -O-(AO)m-X (2)(式中、R2 は炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数2〜6のアルケニル基又は炭素原子数1〜6のアシル基を示す。AOはエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイドを示す。Xは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基又は炭素原子数1〜4のアシル基を示す。mは1〜8の整数を示す。)で示される化合物を含有してなる、半導体基板用又は半導体素子用洗浄剤組成物。
IPC (5件)：
H01L 21/304 341
, C11D 1/72
, C11D 1/722
, C11D 3/20
, H05K 3/26
H01L 21/304 341 L
, C11D 1/72
, C11D 1/722
, C11D 3/20
, H05K 3/26 E
