特許

J-GLOBAL ID：200903069272804490

消臭装置

発明者： 恩田 武 ,  名田 純一郎 ,  大久保 典昭
出願人/特許権者： 神鋼プラント建設株式会社
代理人 (1件)： 明田 莞
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-016822
公開番号（公開出願番号）：特開平11-207138
出願日： 1998年01月29日
公開日（公表日）： 1999年08月03日
要約：

【要約】【解決手段】 処理ガスの導入口12が設けられるとともに、冷却水の噴霧ノズル15が設けられた冷却処理室2と、酸液槽20を有する酸液処理室3と、オゾンの注入管25が設けられたオゾン処理室4と、活性炭27が設けられるとともに、排気ブロアー29への接続口28が設けられた活性炭処理室5とをこの順に処理ガスの通路6〜8を有する仕切り壁9〜11を介して1つのチャンバ1内に構成してなる消臭装置であって、冷却処理室2と酸液処理室3及びオゾン処理室4と活性炭処理室5のそれぞれの処理ガスの通路6,8にデミスタ19, 26を設ける一方、酸液処理室3に、冷却処理室2と酸液処理室3との間の処理ガスの通路に接続され、且つ、出口が酸液槽20に浸漬された処理ガスの導入管21を設けてなる。【効果】この消臭装置によれば、消臭性能を長期に維持して、有機廃棄物の処理設備内で発生する悪臭ガスの各種臭気成分を効果的に除去することができる。

請求項（抜粋）：

処理ガスの導入口が設けられるとともに、冷却水の噴霧ノズルが設けられた冷却処理室と、酸液槽を有する酸液処理室と、オゾンの注入管が設けられたオゾン処理室と、活性炭が設けられるとともに、排気ブロアーへの接続口が設けられた活性炭処理室とをこの順に処理ガスの通路を有する仕切り壁を介して1つのチャンバ内に構成してなる消臭装置であって、冷却処理室と酸液処理室及びオゾン処理室と活性炭処理室のそれぞれの処理ガスの通路にデミスタを設ける一方、酸液処理室に、冷却処理室と酸液処理室との間の処理ガスの通路に接続され、且つ、出口が酸液槽に浸漬された処理ガスの導入管を設けてなることを特徴とする消臭装置。

IPC (6件)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/015 ,  A61L 9/16 ,  B01D 53/77

FI (5件)：

B01D 53/34 116 F ,  A61L 9/00 C ,  A61L 9/015 ,  A61L 9/16 D ,  B01D 53/34 116 C