特許
J-GLOBAL ID:200903069284693383

異物検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-056984
公開番号(公開出願番号):特開平6-273343
出願日: 1993年03月17日
公開日(公表日): 1994年09月30日
要約:
【要約】【目的】 半導体集積回路の製造においてウェーハ上の異物を検出する異物検査装置に関し、プロセスのばらつきや装置の違いによる膜厚分布の違い、及び膜質の違いから生じる乱反射光のバックグラウンドノイズの信号強度を平坦化することにより、光電変換素子または光源の感度を落とすことなくスライスレベルの最適化を行い、検出感度を向上させた異物検査装置を提供することを目的とする。【構成】 ウェーハ7からの反射光を捕えて電気信号に変換する光学系1と、光学系1からの電気信号の内、バックグラウンドノイズ成分を分析する分析手段3と、分析手段3の結果からバックグラウンドノイズの信号強度を平坦化して、異物に対応する信号を検出する検査処理部5とを有して構成する。例えば検査処理部5は、バックグラウンドノイズに対して逆位相の信号を加えることにより信号強度を平坦化する。
請求項(抜粋):
半導体集積回路の製造において、ウェーハ(7)上の異物を検出する異物検査装置であって、前記ウェーハ(7)からの反射光を捕えて電気信号に変換する光学系(1)と、前記光学系(1)からの電気信号の内、バックグラウンドノイズ成分を分析する分析手段(3)と、前記分析手段(3)の結果から前記バックグラウンドノイズの信号強度を平坦化して、異物に対応する信号を検出する検査処理部(5)とを有することを特徴とする異物検査装置。
IPC (6件):
G01N 21/88 ,  G01B 11/30 ,  G06F 15/62 405 ,  G06F 15/68 350 ,  H01L 21/66 ,  G01N 21/00

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