特許

J-GLOBAL ID：200903069285104934

磁極片およびこれを用いた磁界発生装置

発明者： 樋口 大 ,  土井 祐仁
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 奥山 尚一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-169200
公開番号（公開出願番号）：特開2002-360535
出願日： 2001年06月05日
公開日（公表日）： 2002年12月17日
要約：

【要約】【課題】 磁場均一度を損なうことなく、磁石総重量を低減することが可能な、磁気共鳴断層撮影用磁界発生装置の磁極片を提供する。【解決手段】 本発明では、ベース部32と、該ベース部の周縁を囲むように設けられ、外径がベース部の外径よりも大きい周辺突起部31とを含んでなる磁界発生装置用の磁極片3を提供する。この磁極片は、前記周辺突起部は、前記ベース部から外に向かって傾斜して伸びており、傾斜の角度が、ベース部の表面に垂直な直線に対して1〜30°である。本発明はまた、このような磁極片3を含んでなる磁界発生装置7を提供する。

請求項（抜粋）：

ベース部と、該ベース部の周縁を囲むように設けられ、外径がベース部の外径よりも大きい周辺突起部とを含んでなる磁界発生装置用磁極片。

IPC (3件)：

A61B 5/055 ,  G01R 33/383 ,  H01F 7/20

FI (3件)：

H01F 7/20 C ,  A61B 5/05 331 ,  G01N 24/06 510 P

Fターム (8件)：

4C096AA20 ,  4C096AB32 ,  4C096AB42 ,  4C096CA05 ,  4C096CA10 ,  4C096CA16 ,  4C096CA24 ,  4C096CA58