ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-345932
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166480
出願日： 1999年12月06日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】下記一般式(3)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物、およびこれを用いたレジストパターンの製造法。(R6は置換されていてよいアルキル基、を表し、R7は酸分解性基を一つ以上有する有機基を表す。R8は主鎖に環式有機基を含む有機基を、R9、R10はそれぞれ独立にアリール、アルコキシ、ハロヒドロキシ、アルコキシアリール、ハロアリール、シリル、シリルアリール、シロキシ、シロキシアリールで置換していてもよいアルキル基、アリール基、を表す。q,r,s,tはポリマー中に含まれる各構造単位の数であり、1≦q、1≦r、0≦s、0≦tである。各構造単位はポリマー中に規則的に組み込まれてもランダムに含まれてもよい。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(R1およびR2はアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、シリルアルキル基、シロキシアルキル基を表す。R3は主鎖に環式有機基を有し、かつ酸分解性基を少なくとも一つ含む有機基を表す。l、m、nはポリマー中に含まれる各構造単位の数であり、0≦l、1≦m、1≦nである。各構造単位はポリマー中に規則的に組み込まれてもランダムに含まれてもよい。)

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L 81/06 , G03F 7/075 521 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L 81/06 , G03F 7/075 521 , H01L 21/30 502 R

Fターム (24件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB08 , 2H025AB16 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BF23 , 2H025BF24 , 2H025CB08 , 2H025CB34 , 2H025CB41 , 4J002CN031 , 4J002EB126 , 4J002EN136 , 4J002EQ016 , 4J002EU186 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV266 , 4J002EV296 , 4J002GP03

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