特許
J-GLOBAL ID：200903069286890429
重金属被膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-264973
公開番号（公開出願番号）：特開2001-089855
出願日： 1999年09月20日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
要約：
【要約】【課題】薄膜形成においては真空容器内を安定放電実現する圧力に保持した状態で、反応ガス圧(分圧)最小化する。また厚膜形成においては、真空容器内の反応ガス量(分圧)を放電時に一定以上に保つ。【解決手段】真空容器内を安定放電実現する圧力に保持した状態で、反応ガス圧(分圧)最小化するため、反応ガス導入前に反応ガス以外の不活性ガスを導入し、真空容器内の圧力を平衡に保った後に反応ガスを導入する。これにより適正な成膜速度で被膜が形成され、再現性の良い薄膜形成を行う。放電の際、真空容器内の反応に寄与するガス成分の分圧を一定以上に保持するため、成膜速度から反応ガス量を推測する。一定の成膜速度以下になった(反応ガス量が不足した)場合、真空容器内を強制的に排気し、再びガスを導入し繰り返し放電を行う機構を持たせ、比較的厚い任意の被膜を形成する。
請求項（抜粋）：
真空容器内で金属化合物の反応ガスを直流グロー放電によりイオン化し、試料上に金属被膜を堆積させる金属被膜形成装置において、反応容器内の残留ガス圧を一定に保った状態で反応ガスを導入した後、被膜形成直前の真空容器内の反応ガス圧が常に一定となるよう調節することにより、反応ガス分圧が小さい状態で安定したグロー放電を実現し、ナノメートルオーダまたはそれ以下の被膜形成を再現性良く実現させることを特徴とする金属被膜形成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
4K030BA01
, 4K030DA08
, 4K030EA01
, 4K030EA11
, 4K030JA01
, 4K030JA09
