特許

J-GLOBAL ID：200903069294948789

素子分離の形成方法

発明者： 牛膓 哲雄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-264913
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124921
出願日： 1994年10月28日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】 選択酸化を用いて素子分離を形成するに際して、工程増をもたらすことなくバーズビークの発生が防止でき、かつこれを良好なテーパー形状の窒化膜マスクにより素子分離を形成できる技術を提供する。【構成】 窒化膜3をマスクとした選択酸化を行うとともに、テーパー形状である窒化膜マスク3を用いて選択酸化法により素子分離5を形成し、この場合、C/O比が高いガス系を用いたドライエッチングによって、窒化膜3をエッチングして、テーパー形状に形成する。

請求項（抜粋）：

窒化膜をマスクとした選択酸化を行うとともに、マスク形成がテーパー形状である窒化膜マスクを用いた選択酸化法により素子分離を形成する素子分離の形成方法において、C/O比が高いガス系を用いたドライエッチングによって窒化膜をテーパー形状に形成することを特徴とする素子分離の形成方法。

IPC (3件)：

H01L 21/316 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/762

FI (4件)：

H01L 21/94 A ,  H01L 21/302 F ,  H01L 21/302 M ,  H01L 21/76 D