特許
J-GLOBAL ID:200903069311250235

ガス供給システムをバックアップあるいは補償するための方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-139223
公開番号(公開出願番号):特開平10-337463
出願日: 1998年05月07日
公開日(公表日): 1998年12月22日
要約:
【要約】【課題】 現場ガス製造設備をバックアップあるいは補完するための改良システムを提供することである。【解決手段】 気化された液体酸素供給源2及び気化された液体窒素供給源3に接続されたガス混合装置1が、最終使用用途4bのための、V/PSAプラント4からのガスを含む補償用の混合物をパイプライン4aに提供する。
請求項(抜粋):
最小圧力と、主成分を含む組成物とを有するガスを最終用途に提供するための方法であって、a)第1の濃度での前記主成分を有する第1のガスを前記最終用途に提供すること、b)前記最終用途に提供される前記第1のガスの圧力を測定するための手段を提供すること、c)前記第1の濃度よりも高い第2の濃度での前記主成分を有する第2のガスを提供すること、d)前記第1の濃度よりも低い第3の濃度での前記主成分を有する第3のガスを提供すること、e)前記第2のガス及び第3のガスを混合して、少なくとも前記最小圧力を有する第4のガスにして、第4の濃度での前記主成分を有する第4のガスを創出するための手段を提供すること、を含み、f)前記最終用途に受容されるべき前記第1のガスの圧力を測定するための前記手段が、前記最小圧力に関する不足を検出した場合に、該不足が前記第4のガスを追加することにより補償されるようになっている、最小圧力と、主成分を含む組成物とを有するガスを最終用途に提供するための方法。
IPC (3件):
B01J 4/00 102 ,  C21C 5/46 105 ,  C21C 7/072
FI (3件):
B01J 4/00 102 ,  C21C 5/46 105 ,  C21C 7/072 Z
引用特許:
出願人引用 (2件)

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