ポジチブ処理用の感放射線組成物およびこれを使用するレリーフ構造体の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田代烝治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-240820
公開番号（公開出願番号）：特開平9-127699
出願日： 1996年09月11日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】極めて良好な光学的感応性を有する、感放射線組成物および改善されたコントラストを示すレリーフ構造体を提供する。【解決手段】 (a)酸不安定基を含有し、水に不溶性であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に対して可溶性になる少なくとも1種類のポリマー、(b)化学作用線の作用下に酸を形成する少なくとも1種類の有機化合物、および(c)上記(b)とは異なる、少なくとも1種類のさらに他の有機化合物を含有し、上記ポリマー(a)が、下式(I)、(II)、(III)で表わされる単位を、単位(I)が35-70モル%、単位(II)が35-50モル%、単位(III)が0-15モル%の割合でポリマー構造単位として含有する、ポジチブ処理用の感放射線組成物。

請求項（抜粋）：

(a)酸不安定基を含有し、水に不溶性であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に対して可溶性になる少なくとも1種類のポリマー、(b)化学作用線の作用下に酸を形成する少なくとも1種類の有機化合物、および(c)上記(b)とは異なる、少なくとも1種類のさらに他の有機化合物を含有し、上記ポリマー(a)が、下式(I)、(II)、(III)【化1】で表わされる単位を、単位(I)が35-70モル%、単位(II)が35-50モル%、単位(III)が0-15モル%の割合でポリマー構造単位として含有し、上記有機化合物(b)が、下式(IV)【化2】で表わされるスルホニウム塩であり、上記有機化合物(c)が、下式(V)【化3】で表わされ、かつR′、R′′が相互に同じでも異なってもよく、それぞれ炭素原子数1から4のアルキルを意味するか、あるいはR′、R′′がCH2 を介して相互に合体して5員環を形成し、R′′′が炭素原子1から4のアルキルを意味することを特徴とする、ポジチブ処理用の感放射線組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/30 502 R

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