特許

J-GLOBAL ID：200903069330903843

置換ベンゼンジチオール金属錯体およびその製造方法

発明者： 平子 千芳 ,  木村 聡 ,  鈴木 道夫
出願人/特許権者： 住友精化株式会社
代理人 (1件)： 市川 恒彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-219408
公開番号（公開出願番号）：特開平9-309886
出願日： 1996年07月31日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】【課題】 光情報記録媒体または一重項酸素クエンチャーとして有用であり、しかも溶媒に対する溶解度の大きな新規な金属錯体を実現する。【解決手段】 置換ベンゼンジチオール金属錯体は、下記の一般式(1)で示されるものである。【化1】

請求項（抜粋）：

下記の一般式(1)で示される置換ベンゼンジチオール金属錯体。【化1】(式中、【化2】Mは、遷移金属を示す。A+ は、第4級アンモニウム基を示す。)

IPC (5件)：

C07F 1/08 ,  C07C323/67 ,  C07D295/22 ,  C07F 15/04 ,  C07F 15/06

FI (5件)：

C07F 1/08 D ,  C07C323/67 ,  C07D295/22 Z ,  C07F 15/04 ,  C07F 15/06