特許

J-GLOBAL ID：200903069341748726

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐藤 和史 ,  小林 政一 ,  田中 初幸 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-214735
公開番号（公開出願番号）：特開平6-035186
出願日： 1992年07月21日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】【構成】 (A)(イ)水酸基の5〜60モル%がt-ブトキシカルボニル基で保護された水素化率1〜40モル%、重量平均分子量3000〜20000の水素化ポリヒドロキシスチレンと(ロ)クレゾールノボラック樹脂とから成る樹脂成分に対し、(B)ナフトキン-1,2-ジアジド-4-スルホン酸エステルを配合したポジ型レジスト組成物。【効果】 化学増幅型であって、高感度及び高解像性を有する上、露光から現像処理までの間の解像特性の劣化が改良され、特にエキシマレーザー用レジストとして好適に用いられる。

請求項（抜粋）：

(A)(イ)水酸基の5〜60モル%がt-ブトキシカルボニル基で保護された水素化率1〜40モル%、重量平均分子量3000〜20000の水素化ポリヒドロキシスチレンと(ロ)クレゾールノボラック樹脂とから成る樹脂成分に対し、(B)ナフトキノン-1,2-ジアジド-4-スルホン酸エステルを配合したことを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/022 501 ,  H01L 21/027