特許
J-GLOBAL ID：200903069349861050
窒化チタンアルミニウム膜の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-020567
公開番号（公開出願番号）：特開平5-186862
出願日： 1992年01月08日
公開日（公表日）： 1993年07月27日
要約：
【要約】【目的】 良質のTiAlN膜を安定して形成することができる窒化チタンアルミニウム膜の形成方法を提供する。【構成】 窒素ガス6が導入される真空容器2内で、アーク式蒸発源14を用いてチタンカソード16をアーク放電によって局部的に溶解させてチタン粒子16aを蒸発させると共に、イオン源26から引き出した不活性ガスイオンビーム28をアルミニウムターゲット30に照射してそこからアルミニウム粒子30aをスパッタさせ、これらの粒子16a、30aを基体10に入射させる。
請求項（抜粋）：
窒素雰囲気中で、チタンカソードをアーク放電によって局部的に溶解させてチタン粒子を蒸発させると共に、アルミニウムターゲットに不活性ガスイオンビームを照射してそこからアルミニウム粒子をスパッタさせ、これらによって基体の表面に窒化チタンアルミニウム膜を形成することを特徴とする窒化チタンアルミニウム膜の形成方法。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (3件)
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特開平4-028937
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特開平2-290454
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特開昭56-108910
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