特許
J-GLOBAL ID：200903069350964520
測長用モニター
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-267608
公開番号（公開出願番号）：特開平8-128812
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：
【要約】【目的】 半導体装置の加工寸法の管理に係る測長モニターの改良に関する。【構成】 本発明の測長用モニターは、ウェハのLSI形成領域(11)の間に設けられたスクライブライン12上に形成されており、ラインモニター(残しパターン)として、ゲート・ポリシリコンモニター(GP)、第1層メタルモニター(M)、2層メタルモニター(SM)、第3メタルモニター(TM)が下段にブロック状に配置され、ホールモニター(抜きパターン)として、LOCOSモニター(F)、第1コンタクトモニター(C)、第2コンタクトモニター(SC)が上段にブロック状に配置されており、全体としては、上記各モニターが製造工程ごとに行列状に配置された測長モニター(13)となっている。
請求項（抜粋）：
実パターンに対応する複数のラインを平行に配列してなるラインモニターと、実パターンに対応する複数のコンタクトホールを行列状に配列してなるホールモニターとを、スクライブライン上にそれぞれ対応する製造工程ごとに、行列状に配置してなることを特徴とする測長用モニター。
IPC (2件)：
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