特許
J-GLOBAL ID：200903069351605745
プラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
土井 育郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-124830
公開番号（公開出願番号）：特開平6-314543
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月08日
要約：
【要約】【目的】 サブトラクティブ加工により基板上に障壁又は電極の厚膜パターンを形成するに際し、被サブトラクティブ加工物に密着しており高精細のパターン形成が可能であって、しかもタック防止層を必要としないサブトラクティブ用マスク層を得る。【構成】 基板上に塗布した厚膜パターン形成材料の上に形成するサブトラクティブ用マスク層を、乾燥後において表面に粘着性のない感光性樹脂により形成する。使用する感光性樹脂が液状であるため膜厚の調整が容易で高精細のパターンが形成でき、しかも現像時に厚膜パターン形成材料から剥離しないマスク層が得られるので、良好なパターンで且つ厚膜パターン形成材料に密着したマスク層を介してサブトラクティブ加工を行うことができる。また、露光用のマスクを汚すことがなく、タック防止層を設ける必要もない。
請求項（抜粋）：
プラズマディスプレイ基板上に障壁又は電極となるパターン形成材料を予め所定の厚さで塗布し、その上に所望パターンのサブトラクティブ用マスク層を形成した後、該サブトラクティブ用マスク層を介してのサブトラクティブ加工により目的とする障壁又は電極のパターンを形成するプラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法において、前記サブトラクティブ用マスク層を、乾燥後において表面に粘着性ない感光性樹脂により形成することを特徴とするプラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法。
IPC (2件)：
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