特許

J-GLOBAL ID：200903069352966229

スチルベンジオール類の製造方法

発明者： 渡部 久 ,  横田 明 ,  平野 泰弘 ,  遠藤 康博
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-212674
公開番号（公開出願番号）：特開平10-053549
出願日： 1996年08月12日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：

【要約】【課題】スチルベンジオール類の製造方法において、反応終了後、その反応溶液からスチルベンジオール類を取り出す際、失われる量が少ない方法、またこれに加えて、脱水縮合反応後、前駆体を単離することなく、またその際の廃液(廃酸)の処理が簡便であり、かつ高収率で製造できる、スチルベンジオール類の工業的な製造方法を提供すること。【解決手段】水酸基のオルト位またはパラ位に少なくとも1つの水素原子を有するフェノール類と、α位にハロゲン原子を有するカルボニル化合物とを出発原料とするスチルベンジオール類の製造方法において、反応終了後、反応液からスチルベンジオール類の有機溶媒溶液相および水相を含む混合物を調製し、該有機溶媒溶液相から有機溶媒を蒸発させつつ、水相中にスチルベンジオール類を晶析させることを特徴とする方法。

請求項（抜粋）：

水酸基のオルト位またはパラ位に少なくとも1つの水素原子を有するフェノール類と、α位にハロゲン原子を有するカルボニル化合物とを出発原料とするスチルベンジオール類の製造方法において、反応終了後、反応液からスチルベンジオール類の有機溶媒溶液相および水相を含む混合物を調製し、該有機溶媒溶液相から有機溶媒を蒸発させつつ、水相中にスチルベンジオール類を晶析させることを特徴とする方法。

IPC (7件)：

C07C 39/215 ,  B01D 9/02 601 ,  B01D 9/02 610 ,  C07C 37/18 ,  C07C 37/84 ,  C07C 39/367 ,  C07B 61/00 300

FI (7件)：

C07C 39/215 ,  B01D 9/02 601 J ,  B01D 9/02 610 Z ,  C07C 37/18 ,  C07C 37/84 ,  C07C 39/367 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特公昭44-003586
  
• 特開昭54-070249
  
• トランス構造を有するジヒドロキシスチルベン誘導体 の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-189952   出願人：日本化薬株式会社