特許

J-GLOBAL ID：200903069367637159

多孔性ポリマ-薄膜及び半導体装置

発明者： 渡部 慶二 ,  五十嵐 美和 ,  矢野 映 ,  中田 義弘 ,  福山 俊一
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-370012
公開番号（公開出願番号）：特開2000-191822
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】【課題】 高絶縁性、高耐熱性、低誘電率、高密着性、簡便な製造プロセス、均一な膜質、そして安定性という絶縁膜に課されている要求特性のすべてを同時に満足させることのできるポリマー薄膜を提供すること。【解決手段】 多孔性のポリマー薄膜において、5,000以上の重量平均分子量を有しかつその構造中に親水性基を有しない薄膜形成性ポリマーから形成されたものでありかつ前記ポリマー薄膜中に孔径5〜5,000Åの微細な細孔が分散せしめられており、そして前記細孔が、前記薄膜形成性ポリマーと分子レベルで均一に混合可能でありかつ前記ポリマー薄膜の成膜中にその薄膜から分離及び除去された細孔形成性化合物に由来しているように構成する。

請求項（抜粋）：

多孔性のポリマー薄膜であって、5,000以上の重量平均分子量を有しかつその構造中に親水性基を有しない薄膜形成性ポリマーから形成されたものでありかつ前記ポリマー薄膜中に孔径5〜5,000Åの微細な細孔が分散せしめられており、そして前記細孔が、前記薄膜形成性ポリマーと分子レベルで均一に混合可能でありかつ前記ポリマー薄膜の成膜中にその薄膜から分離及び除去された細孔形成性化合物に由来していることを特徴とする多孔性ポリマー薄膜。

IPC (5件)：

C08J 9/26 102 ,  C08J 9/26 CFH ,  H01L 21/312 ,  H01M 2/16 ,  C08L 83:04

FI (4件)：

C08J 9/26 102 ,  C08J 9/26 CFH ,  H01L 21/312 C ,  H01M 2/16 P

Fターム (25件)：

4F074AA90 ,  4F074AB01 ,  4F074BA72 ,  4F074BA75 ,  4F074BA82 ,  4F074CB03 ,  4F074CB06 ,  4F074CB16 ,  4F074CB17 ,  4F074DA03 ,  4F074DA14 ,  4F074DA23 ,  4F074DA47 ,  5F058AA08 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02 ,  5H021BB13 ,  5H021EE02 ,  5H021EE20 ,  5H021EE30 ,  5H021EE37 ,  5H021HH00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭64-034407
  
• 多孔質膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-135785   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 特開昭64-034407
  
• 特開昭64-034407