特許

J-GLOBAL ID：200903069367690050

光の照射方法及びその装置、高分子配向膜の製造方法及びその装置

発明者： 地崎 誠 ,  川角 浩一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-002982
公開番号（公開出願番号）：特開平11-202336
出願日： 1998年01月09日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】 照射領域に対する照射源からの距離をほぼ均等とし、照射強度を一様となすことによって、ポリイミド等の光感光性配向膜の光化学反応の程度(即ち、液晶分子の配向特性)を基板面内で一様にすること。【解決手段】 直線偏光1Cの照射方向に対し高分子膜5を斜め方向Aに移動させながら、この移動方向と交差する(特に直交する)方向に直線偏光1Cを幅細パターン9に高分子膜5に対し照射する。

請求項（抜粋）：

光の照射方向に対し被照射体を斜め方向に相対的に移動させながら、この移動方向と交差する方向に前記光を幅細パターンに前記被照射体に対し照射する、光の照射方法。

IPC (3件)：

G02F 1/1337 500 ,  G02F 1/1337 520 ,  C08J 7/00 302

FI (3件)：

G02F 1/1337 500 ,  G02F 1/1337 520 ,  C08J 7/00 302