特許
J-GLOBAL ID：200903069373884982
X線利用の基板検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 由充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-045660
公開番号（公開出願番号）：特開平6-237076
出願日： 1993年02月10日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：
【要約】【目的】走査X線発生源を有する基板検査装置を用いて効率的な検査を可能とし、加えてX線放射量も低減させたX線利用の基板検査方法を提供する。【構成】走査X線発生源1は管内で電子ビームを走査してターゲット面4より管外へX線ビーム6を発生させる。X線ビーム6は基板7に投射され、基板7を透過したX線ビーム6がX線検出器8で検出されて画像信号に変換される。画像信号は画像処理装置14に取り込まれて所定の画像処理が行われ、各部品9の半田付け部位について半田付け状態の良否が判別される。画像処理装置14のX線制御部15は、電子ビームの走査がターゲット面4の基板7上の半田付け部位に対応する範囲に限定して行われるよう、走査X線発生源1の動作を制御する。
請求項（抜粋）：
電子ビームを走査してターゲット面より発生させたX線ビームを基板へ照射し、前記基板を透過したX線ビームによりX線透過像を生成して前記基板に実装された部品の半田付け部位を検査するようにしたX線利用の基板検査方法において、前記電子ビームの走査範囲を基板上の特定の検査対象領域に対応させて限定することを特徴とするX線利用の基板検査方法。
IPC (2件)：
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