特許

J-GLOBAL ID：200903069374559120

超高分子量ポリエチレン製スリップシート及びその製造方法

発明者： 西山 昌 ,  石原 恵
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 米澤 明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-187891
公開番号（公開出願番号）：特開平6-091747
出願日： 1993年07月29日
公開日（公表日）： 1994年04月05日
要約：

【要約】【目的】 超高分子量ポリエチレンからなる摩擦係数の小さなスリップシートを得る。【構成】 帯電防止剤、柔軟化剤、界面活性剤等からなる滑剤、隠蔽剤の少なくとも一種を含有した超高分子量ポリエチレンの組成物を押出成形によってシート化したものを、さらに1軸もしくは2軸延伸することによって厚さが60〜150μmで、カットオフ値0.8mmで測定した中心線平均粗さRaが0.5〜4μmで、最大高さRmaxが1〜40μmとした超高分子量ポリエチレン製スリップシート。

請求項（抜粋）：

超高分子量ポリエチレンからなるスリップシート用フィルムにおいて、超高分子量ポリエチレンは、帯電防止剤、柔軟化剤、滑剤、隠蔽剤の少なくとも一種を含有し、厚さが60〜150μm、JIS B0651記載の触針式表面粗さ測定器によって測定した粗さが、カットオフ値0.8mmで測定した中心線平均粗さRaが0.5〜4μmで、最大高さRmaxが1〜40μmであることを特徴とする超高分子量ポリエチレン製スリップシート。

IPC (9件)：

B29C 55/02 ,  B29C 47/14 ,  C08J 5/18 CES ,  G11B 23/033 101 ,  G11B 23/033 102 ,  G11B 23/087 103 ,  C08L 23/06 LDC ,  B29K 23:00 ,  B29L 7:00