特許
J-GLOBAL ID:200903069387412811

透明導電性積層体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 前田 純博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-247768
公開番号(公開出願番号):特開平10-086269
出願日: 1996年09月19日
公開日(公表日): 1998年04月07日
要約:
【要約】【課題】 耐溶剤性、ガスバリアー性に優れ、しかも上記のような透明性、光学等方性、平面性に優れ、層間の密着性が良好な透明導電性積層体。【解決手段】 透明樹脂基板上に少なくともガスバリア性の金属酸化物層、透明導電層が設けられた透明導電性積層体において、前記透明樹脂基板の少なくとも片面上に特定のアルコキシシランの(部分)加水分解物、その(部分)縮合物またはこれらの混合物の硬化層、又は該特定のアルコキシシランの(部分)加水分解物、その(部分)縮合物またはこれらの混合物とポリビニルアルコール系高分子との混合硬化層からなるケイ素含有層を介して金属酸化物層を設け、透明導電層は最外層に位置し、透明樹脂基板との間に少なくとも一層の耐溶剤性の保護層が介在するように設けられていることを特徴とする透明導電性積層体。
請求項(抜粋):
透明樹脂基板上に少なくともガスバリア性の金属酸化物層、透明導電層が設けられた透明導電性積層体において、前記透明樹脂基板の少なくとも片面上に下記一般式(1)で示されるアルコキシシランの(部分)加水分解物、その(部分)縮合物またはこれらの混合物の硬化層、又は下記一般式(1)で示されるアルコキシシランの(部分)加水分解物、その(部分)縮合物またはこれらの混合物とポリビニルアルコール系高分子との混合硬化層からなるケイ素含有層を介して金属酸化物層が設けられ、透明導電層は最外層に位置し、透明樹脂基板との間に少なくとも一層の耐溶剤性の保護層が介在するように設けられていることを特徴とする透明導電性積層体。【化1】 R1n-Si(OR2)4-n ・・・・(1)[ここで、R1は炭素数1〜4のアルキル基、ビニル基、又はメタクリロキシ基、アミノ基、イミノ基、エポキシ基およびメルカプト基からなる群から選ばれる1以上の基を有する有機基であり、R2は炭素数1〜4のアルキル基であり、nは0〜2の整数である。]
IPC (5件):
B32B 9/00 ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 27/30 102 ,  B32B 27/36 102 ,  C23C 14/10
FI (5件):
B32B 9/00 A ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 27/30 102 ,  B32B 27/36 102 ,  C23C 14/10
引用特許:
審査官引用 (19件)
  • 特開昭59-204545
  • 特開昭59-204545
  • 特開平2-150430
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