特許
J-GLOBAL ID：200903069394180365
基板の洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-118113
公開番号（公開出願番号）：特開平5-289039
出願日： 1992年04月10日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：
【要約】【目的】 少なくとも一面に電極を有し、かつ可撓性を有する長尺基板の表面の汚染物を均一かつ効率よく除去する。【構成】 長尺の可撓性基板(11)を巻回してなる繰り出しロール(10)から基板(11)を繰り出し、これを巻き取りロール(12)に巻き取る間に、紫外線オゾン洗浄、超音波洗浄、又はこの両洗浄法を組み合わせて基板表面の洗浄を行う。
請求項（抜粋）：
少なくとも一面に電極を有し、かつ可撓性を有する長尺基板をロール状に巻回して繰り出しロールを形成し、この繰り出しロールから基板を送り出して巻き取りロールに巻き取る間に、酸素又はオゾンを含む雰囲気下で基板表面に紫外線を照射して基板表面に付着した有機汚染物を除去する洗浄処理を、基板の一端側から他端側へと連続的に行うことを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (2件)：
G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
