特許

J-GLOBAL ID：200903069403625375

薄膜製造装置

発明者： 畑口 光明
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-314689
公開番号（公開出願番号）：特開平9-134947
出願日： 1995年11月08日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：

【要約】【課題】本発明の課題は、搬送時の稼働率を向上させ、帯状基体の幅方向端部に傷や変形が発生せず、低コスト化が実現できる薄膜製造装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、上記課題を解決するため成膜空間内等における帯状基体の幅方向を案内する搬送ガイドローラーを備え、該帯状基体を長手方向に連続的に搬送して該帯状基体上に堆積膜を形成する薄膜製造装置において、前記搬送ガイドローラーが前記帯状基体の幅方向に可動自在とされていると共に、該帯状基体の幅方向の動作を制約して搬送軌道がズレないようにされていることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

成膜空間内等における帯状基体の幅方向を案内する搬送ガイドローラーを備え、該帯状基体を長手方向に連続的に搬送して該帯状基体上に堆積膜を形成する薄膜製造装置において、前記搬送ガイドローラーが前記帯状基体の幅方向に可動自在とされていると共に、該帯状基体の幅方向の動作を制約して搬送軌道がズレないようにされていることを特徴とする薄膜製造装置。

IPC (7件)：

H01L 21/68 ,  B65H 23/038 ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 ,  H01L 31/04

FI (7件)：

H01L 21/68 A ,  B65H 23/038 A ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C ,  H01L 31/04 T