特許

J-GLOBAL ID：200903069416166515

液体処理法

発明者： 足立 成人 ,  芳賀 潤二 ,  三浦 雅彦
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-191774
公開番号（公開出願番号）：特開2002-001340
出願日： 2000年06月26日
公開日（公表日）： 2002年01月08日
要約：

【要約】【課題】 電極間にパルス状の電力を供給して電極対間に存在する被処理液を改質する際に、電極間に放電を敢えて発生させずに電界パルス印加処理に止め、放電処理に特有の問題を回避しつつ殺菌、浄化などを効率よく遂行することのできる液体処理法を提供すること。【解決手段】 被処理液中に浸漬配置される少なくとも1対の電極間に電圧を印加し、該電極間に30kV/cm以下の電界を形成させ、好ましくは、下記式(式中の記号の意味は明細書に記載の通り)を満たす様に印加電圧を制御して電界処理を行なう。30(kV/cm)≧E(r)=[V/loge(L/a)]・(1/r)

請求項（抜粋）：

被処理液中に浸漬配置される少なくとも1対の電極間に電圧を印加し、該電極間に30kV/cm以下の電界を形成させて被処理液の処理を行なうことを特徴とする液体処理法。

IPC (2件)：

C02F 1/46 ZAB ,  A23L 3/015

FI (2件)：

C02F 1/46 ZAB Z ,  A23L 3/015

Fターム (15件)：

4B021LA42 ,  4B021LP10 ,  4B021LT01 ,  4D061DA08 ,  4D061DB01 ,  4D061EB01 ,  4D061EB07 ,  4D061EB14 ,  4D061EB17 ,  4D061EB20 ,  4D061EB33 ,  4D061EB34 ,  4D061EB35 ,  4D061EB39 ,  4D061GC12