特許
J-GLOBAL ID：200903069422543185
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-061480
公開番号（公開出願番号）：特開2001-250205
出願日： 2000年03月07日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：
【要約】【課題】 高記録密度化に伴う短波長の記録信号を再生するための狭ギャップレングス化された再生ヘッドにおいて、安定した縦バイアスを供給し、高感度で、且つ安定した再生性能を有する薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】 GMR素子を構成するフリー磁性層の上に、バイアス非磁性膜、バイアス強磁性膜及びバイアス反強磁性膜の3層の積層膜からなる積層バイアス膜を形成し、バイアス反強磁性膜とバイアス強磁性膜を反強磁性結合させ、バイアス強磁性膜の磁化の方向を非常に安定させ、一方、バイアス非磁性膜を介してバイアス強磁性膜に対向したフリー磁性層は、バイアス非磁性膜の膜厚を適当な厚さに選ぶことによって、バイアス強磁性膜とフリー磁性層を強磁性的に結合或いは反強磁性的に結合させて安定した縦バイアスをフリー磁性層に与え、ノイズの発生が小さく、安定で且つ高感度な再生特性を実現する。
請求項（抜粋）：
下部シールド層と上部シールド層との間に絶縁材を介して磁気抵抗効果素子を有し、信号電流を流すための電極リード層からなる磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、反強磁性層、固定磁性層、非磁性層及びフリー磁性層が順次積層成膜形成された磁気抵抗効果素子と、前記磁気抵抗効果素子の最上部に構成された前記フリー磁性層の上に順次積層成膜されたバイアス非磁性膜、バイアス強磁性膜及びバイアス反強磁性膜からなる積層バイアス膜と、からなる構成を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Fターム (3件)：
5D034BA03
, 5D034BA12
, 5D034DA07
