特許
J-GLOBAL ID：200903069426770976
三次元物体を形成する方法および装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-233815
公開番号（公開出願番号）：特開2002-086575
出願日： 1990年10月30日
公開日（公表日）： 2002年03月26日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】ステレオリソグラフィーによる三次元物体の形成において、歪を軽減し、形成される三次元物体の精度を向上させる。【解決手段】三次元物体の先に固化された層上に媒質の層を施し、その層を固化する刺激に選択的に露出して三次元物体の1つの層を形成する際、各々のタイルが近隣のいずれのタイルからもタイルの間の露出されていない媒質の間隔だけ隔てられているタイルのパターン状に、少なくとも1つの層の少なくとも一部を露出する。
請求項（抜粋）：
三次元物体に対応するデータにしたがって、相乗刺激への露出により固化可能な媒質から、層毎に該三次元物体の少なくとも一部を形成する方法であって、a) 前記三次元物体の先に固化された層上に前記媒質の層を施し、b) 該層を相乗刺激に選択的に露出して、前記三次元物体の1つの層を形成し、c) 前記三次元物体の前記少なくとも一部が形成されるまで、後に形成される層について工程a)およびb)を繰り返す、各工程を含み、前記層を選択的に露出する工程が、各々のタイルが近隣のいずれのタイルからも該タイルの間の露出されていない媒質の間隔だけ隔てられているタイルのパターン状に、少なくとも1つの層の少なくとも一部を露出する工程を含むことを特徴とする方法。
Fターム (12件)：
4F213AA44
, 4F213AC04
, 4F213WA25
, 4F213WA97
, 4F213WB01
, 4F213WL02
, 4F213WL12
, 4F213WL15
, 4F213WL45
, 4F213WL75
, 4F213WL93
, 4F213WL96
