特許
J-GLOBAL ID：200903069434888102
レーザ放射光の均質化および複数の照明フィールドの生成のための光学装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-230244
公開番号（公開出願番号）：特開平10-082971
出願日： 1997年08月12日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：
【要約】【課題】 レーザ放射光を均質化し、複数の照明フィールドを生成する光学装置を提供する。【解決手段】 レーザ、特にエキシマレーザの放射光を均質化し、この放射光から複数の照明フィールド(F1、F2)を生成するための、複数のアセントリックなレンズ切片(G1a、G1b、G1c、G1d;G2a、G2b、G2c、G2d)を備えた光学装置を提供する。このアセントリックなレンズ切片は、対称軸を有するシリンダ形レンズの切片であること、そして、シリンダ形レンズの対称軸を含む部分がアセントリックなレンズ切片を構成しないことで特徴付けられる。アセントリックなレンズ切片の複数のグループG1、G2、...は、その各々が均質なエネルギ密度を持つ照明フィールドF1、F2、...を生成する。集光レンズSはアセントリックなレンズ切片の川下に配置され、作業平面E上に照明フィールドF1、F2を生成する。
請求項（抜粋）：
レーザ放射光を均質化し、複数の照明フィールドを生成するための装置であって、ビーム軸(A)に垂直に配置された複数のレンズ(G1a、G1b、G1c、G1d;G2a、G2b、G2c、G2d)と、照射方向(R)における、前記複数のレンズの川下に配置された集光レンズ(S)とを備え、前記複数のレンズの列が、複数の異なるグループ(G1、G2)の複数のアセントリックなレンズ切片(G1a、...、G1d;G2a、...、G2d)を含んでなることを特徴とする光学装置。
引用特許：
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