特許
J-GLOBAL ID：200903069452975969
光触媒性親水性被膜形成前の表面の前処理法並びにそれに用いられる洗浄剤およびアンダーコート組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-156232
公開番号（公開出願番号）：特開平11-050006
出願日： 1998年06月04日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：
【要約】【課題】 良好な光触媒性親水性被膜を得ることができる、光触媒性親水性被膜を形成する前の基材表面を処理方法を含めた、光触媒性親水性被膜の形成方法、並びにその方法に用いられる洗浄剤およびアンダーコート組成物の提供。【解決手段】 基材表面を所定の洗浄剤で洗浄し、または基材表面を所定の洗浄剤で洗浄し、その後基材表面に所定のアンダーコート組成物を適用してアンダーコート層を形成し、その後に光触媒性親水性コ-ティング液を塗布し、硬化させて被膜を形成することにより、良好な光触媒性親水性被膜が得られる。そして、本発明において洗浄剤とは、界面活性剤、研磨剤、酸、および塩基からなる群から選択される少なくとも一種を含んでなるものであり、アンダーコート組成物とは、無機酸化物粒子またはシリコーン若しくはシリコーン前駆体と、溶媒とを少なくとも含んでなるものである。
請求項（抜粋）：
界面活性剤、研磨剤、酸、塩基、および溶剤からなる群から選択される少なくとも一種を含んでなる、光触媒性親水性被膜が形成される基材表面を洗浄するための洗浄剤。
IPC (4件)：
C09D183/04
, C03C 17/30
, C09D 5/00
, C11D 3/14
C09D183/04
, C03C 17/30 Z
, C09D 5/00 D
, C09D 5/00 Z
, C11D 3/14
