特許

J-GLOBAL ID：200903069455813943

マスクパターンチェック方法

発明者： 山野 雅一
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 鳥居 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-027060
公開番号（公開出願番号）：特開平11-224278
出願日： 1998年02月09日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】 この発明は、最終的なマスクパターンがどの様なマスクパターンを用いているのか検証可能にし、マスクパターン不良の発生等を防止することを目的とする。【解決手段】 この発明のマスクパターンチャック方法は、機能セル毎のマスクパターンにバージョン番号を付けると共に、半導体集積回路を構成するマスクパターンのそれぞれのバージョン番号を抽出し、前記抽出したバージョン番号を対応する機能セルの最新バージョン番号と比較し、最新バージョンのセルのマスクパターンを使用しているかをチェックする。

請求項（抜粋）：

機能セル毎のマスクパターンにバージョン番号を付けると共に、半導体集積回路を構成するマスクパターンのそれぞれのバージョン番号を抽出することを特徴とするマスクパターンチェック方法。

FI (2件)：

G06F 15/60 666 Z ,  G06F 15/60 614 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 設計情報提示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-285954   出願人：株式会社日立製作所
• CADライブラリ管理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-119610   出願人：株式会社東芝
• ソフトウェア提供システム,ソフトウェア提供装置及び被ソフトウェア提供装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-063465   出願人：富士通株式会社
• 特開平3-017781