特許
J-GLOBAL ID：200903069467820180
窒化保護膜、それを用いた液晶ディスプレイおよび窒化保護膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-035614
公開番号（公開出願番号）：特開平7-244277
出願日： 1994年03月07日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】 フリッカーが小さく、かつ、透明なSiNX 保護膜の提供。【構成】 液晶ディスプレイの画素電極上の電極保護膜が、主たる原料ガスであるNH3 とSiH4 とのガス流量比NH3 /SiH4 が0.7〜1.4の範囲でグロー放電により成膜されたSiNX 保護膜からなる。
請求項（抜粋）：
半導体素子に形成される窒化保護膜であって、前記窒化保護膜が、主たる原料ガスであるNH3 とSiH4 とのガス流量比NH3 /SiH4 が0.7〜1.4の範囲でグロー放電により成膜されたSiNX保護膜からなることを特徴とする窒化保護膜。
IPC (2件)：
G02F 1/1333 505
, G02F 1/1343
