特許
J-GLOBAL ID：200903069470978290
電子ビームアニール装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-310209
公開番号（公開出願番号）：特開平8-165563
出願日： 1994年12月14日
公開日（公表日）： 1996年06月25日
要約：
【要約】【構成】中性ガスを電離してプラズマを発生するプラズマ発生容器2と,プラズマより電子を電子ビームとして引き出す引き出し電極6,7と,電子ビームが入射する基板12と真空容器13よりなる装置において、プラズマ発生容器2の外周又は内周に交互に磁極が変化するように永久磁石3を設けた電子ビームによるアニール装置である。【効果】従来の電子ビームアニール装置では困難であった6吋或いは8吋以上の大面積ウェハを一括してアニールできるようになった。
請求項（抜粋）：
中性ガスを電離してプラズマを発生するプラズマ発生容器と,前記プラズマより電子を電子ビームとして引き出す引き出し電極と,前記電子ビームが入射する基板と、真空容器とを含む電子ビーム装置において、前記プラズマ発生容器の外周又は内周に、交互に磁極が変化するように永久磁石を設け、前記プラズマ発生容器から前記電子ビームを取り出し、前記電子ビームで前記基板をアニールすることを特徴とする電子ビームアニール装置。
IPC (4件)：
C23C 14/30
, G21K 5/04
, H01J 37/317
, H01L 21/263
