特許

J-GLOBAL ID：200903069475800732

熱電材料の製造方法およびこれを用いた熱電素子の製造方法

発明者： 青山 生人
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所
代理人 (1件)： 木村 高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-347920
公開番号（公開出願番号）：特開平10-190074
出願日： 1996年12月26日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：

【要約】【課題】 結晶形態および結晶粒径を調整し、ド-ピング制御が容易で製造歩留りの高い熱電材料を提供する。【解決手段】 本発明では、断面積が徐々に小さくなるように構成されたガス導入部と、前記ガス導入部に接続され、ノズル全体で最小の断面積をもつように構成されたスロート部と、前記スロート部に接続され、所定の広がり角をもって断面積が徐々に拡大し、最大断面積をとるように構成されたガス噴射部とからなり、該ノズル内を通過するガスが断熱膨張せしめられてガス噴射部から音速よりも大きい流速で噴射されるように加速するガス流路を構成する超音速ノズルのガス導入部に原料元素を含む反応性ガスを供給する工程と、これを熱励起することにより、ガスラジカルを生成する工程と、前記ガスラジカルを断熱膨張させて音速よりも大きい流速となるように所望の方向に加速する工程と、加速された前記ガスラジカルを基体の表面に向けて噴射させる工程とを具備し前記基体表面に熱CVD(化学的気相成長)法により熱電材料を形成するようにしたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

断面積が徐々に小さくなるように構成されたガス導入部と、前記ガス導入部に接続され、ノズル全体で最小の断面積をもつように構成されたスロート部と、前記スロート部に接続され、所定の広がり角をもって断面積が徐々に拡大し、最大断面積をとるように構成されたガス噴射部とからなり、該ノズル内を通過するガスが断熱膨張せしめられてガス噴射部から音速よりも大きい流速で噴射されるように加速するガス流路を構成する超音速ノズルに、原料元素を含む反応性ガスを導入する工程と、このノズル内で前記反応性ガスを熱励起することにより、ガスラジカルを生成する工程と、前記ガスラジカルを断熱膨張させて音速よりも大きい流速となるように所望の方向に加速する工程と、加速された前記ガスラジカルを基体の表面に向けて噴射させる工程とを具備し前記基体表面に熱CVD(化学的気相成長)法により熱電材料を形成するようにしたことを特徴とする熱電材料の製造方法。

IPC (4件)：

H01L 35/34 ,  C23C 16/44 ,  H01L 35/18 ,  H01L 35/32

FI (4件)：

H01L 35/34 ,  C23C 16/44 D ,  H01L 35/18 ,  H01L 35/32 A