超高純度シリカ粉の製造方法および該製造方法で得られた超高純度シリカ粉

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：服部平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-179176
公開番号（公開出願番号）：特開平11-011929
出願日： 1997年06月20日
公開日（公表日）： 1999年01月19日
要約：

【要約】【課題】本発明は、半導体工業、光通信工業で使用できる超高純度のシリカ粉、特に単結晶引上げ用ルツボの製造原料としても有用なシリカ粉の製造方法および該製造方法で得られた超高純度シリカ粉を提供すること。【解決手段】珪酸アルカリ水溶液から生成した高純度含水シリカゲルを80°C未満の無機酸で処理したのち、80°C以上の硝酸、塩酸又はそれらの混酸から選ばれた無機酸で処理し、次いで1000°C以上の温度で焼成することを特徴とする超高純度シリカ粉の製造方法および該製造方法で得られた超高純度シリカ粉。

請求項（抜粋）：

珪酸アルカリ水溶液から生成した高純度含水シリカゲルを80°C未満の無機酸で処理したのち、80°C以上の硝酸、塩酸又はそれらの混酸から選ばれた無機酸で処理し、次いで1000°C以上の温度で焼成することを特徴とする超高純度シリカ粉の製造方法。

IPC (4件)：

C01B 33/158 , C01B 33/18 , C03B 20/00 , C03C 3/06

FI (4件)：

C01B 33/158 , C01B 33/18 D , C03B 20/00 , C03C 3/06

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平3-159912
特開平1-275438
特開昭62-283810

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審査官引用 (4件)

特開平3-159912
特開平1-275438
特開昭62-283810

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