特許

J-GLOBAL ID：200903069482662248

金属酸化物複合化高分子多孔質体及びその製造方法

発明者： 小林 正幸 ,  大賀 隆裕
出願人/特許権者： ジャパンゴアテックス株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-214614
公開番号（公開出願番号）：特開平6-032935
出願日： 1992年07月20日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、高分子多孔質体の細孔内表面に脱落しにくくかつ薄く均一に金属酸化物を付着させた親水性にすぐれた高分子多孔質体及びその製造方法を提供する。【構成】 連続細孔を有する高分子多孔質体と、該高分子多孔質体の細孔内表面を被覆する金属酸化物金属酸化物複合化高分子多孔質体であって、金属酸化物被覆前の高分子多孔質体の空孔容積の50%以上の空孔容積を保持することを特徴とする金属酸化物複合化高分子多孔質体。加水分解性金属含有有機化合物を水と反応させて形成した溶液状のゲル化生成物を高分子多孔質体に含浸させる工程と、該高分子多孔質体に含浸させた溶液状ゲル化生成物に水を反応させて固体状ゲル化生成物に変換させる工程と、このようにして高分子多孔質体内に形成された固体状ゲル化生成物を加熱乾燥させる工程からなる金属酸化物複合化高分子多孔質体の製造方法。

請求項（抜粋）：

連続細孔を有する高分子多孔質体と、該高分子多孔質体の細孔内表面を被覆する金属酸化物からなる金属酸化物複合化高分子多孔質体であって、金属酸化物被覆前の高分子多孔質体の空孔容積の50%以上の空孔容積を保持することを特徴とする金属酸化物複合化高分子多孔質体。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-030542
  
• 特開昭63-030542