特許
J-GLOBAL ID:200903069493500746

回転式成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-016791
公開番号(公開出願番号):特開平5-212340
出願日: 1992年01月31日
公開日(公表日): 1993年08月24日
要約:
【要約】【目的】基板6の形状の影響を低減し、基板6に成膜した膜厚のバラツキの回避、飛散液が基板の裏面へ侵入することの回避に有利な回転式成膜装置を提供すること。【構成】基板6をホルダ1の基板設置面10に真空チャックした状態で、駆動モータ2で基板6を回転させつつ、第1ノズル36、第2ノズル37及び第3ノズル38から膜形成液(テトラエトキシシリケート)を滴下する。滴下量は第1ノズル36、第2ノズル37、第3ノズル38の順に小さい。基板6の回転で生じた遠心力により基板6から飛散液が飛散するが、真空ポンプ43の駆動により、飛散液は吸引管41の連続スリット44cから吸引管41内に吸引される。
請求項(抜粋):
成膜される基板が設置される基板設置面をもつホルダと、該ホルダを回転させる駆動部と、該基板設置面の上方に配置され基板上に膜形成液を滴下する複数個の供給口をもつ液供給部と、該ホルダの該基板設置面の周囲に配置され基板から飛散された飛散液を吸引する吸引手段とで構成されていることを特徴とする回転式成膜装置。
IPC (2件):
B05C 11/08 ,  H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭58-082521
  • 特開昭57-078636
  • 特開平1-164034
全件表示

前のページに戻る