特許
J-GLOBAL ID:200903069494468064
磁気ディスク及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-035363
公開番号(公開出願番号):特開平8-235584
出願日: 1995年02月23日
公開日(公表日): 1996年09月13日
要約:
【要約】【目的】 記録容量が大きい磁気記録媒体で安定した高再生出力が得られ、かつ、モジュレーション特性が良好な磁気ディスクとその製造方法の提供。【構成】 非磁性支持体上に、非磁性粉末を結合剤中に分散させた非磁性層を少なくとも一層を設け、該非磁性層の上に強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁性層を設けた磁気ディスクの製造方法において、該磁性層は、針状比3〜10、平均長軸長0.05〜0.18μm、飽和磁化量(σs)120〜170emu/gである強磁性粉末を含有し、かつ該磁性層と前記非磁性層をウエット・オン・ウエット方式で塗布し、配向及び無配向処理を施さないことを特徴とする磁気ディスク及びその製造方法。
請求項(抜粋):
非磁性支持体上に、非磁性粉末を結合剤中に分散させた非磁性層を少なくとも一層を設け、該非磁性層の上に強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁性層を設けた磁気ディスクの製造方法において、該磁性層は、針状比3〜10、平均長軸長0.05〜0.18μm、飽和磁化量(σs)120〜170emu/gである強磁性粉末を含有し、かつ該磁性層と前記非磁性層をウエット・オン・ウエット方式で塗布し、配向及び無配向処理を施さないことを特徴とする磁気ディスク製造方法。
IPC (5件):
G11B 5/842
, G11B 5/706
, G11B 5/714
, G11B 5/82
, G11B 5/845
FI (5件):
G11B 5/842 A
, G11B 5/706
, G11B 5/714
, G11B 5/82
, G11B 5/845 Z
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