特許

J-GLOBAL ID：200903069505787647

露光方法

発明者： 宮地 敬
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-274191
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115814
出願日： 1995年10月23日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：

【要約】【課題】 ウエハの走査方向の周縁部のショット領域にも高精度に合焦させた状態で、且つスループットを低下させることなく露光する。【解決手段】 走査露光型の投影露光装置において、先ずウエハW上の全てのショット領域S1,1 〜S6,4 を露光するための走査経路及び移動経路が最も短くなる露光順序を求める。その後、全体の露光時間が殆ど変わらないという条件の下で露光順序を矢印B1,B2,...,B32で示すように変更して、ウエハW上の走査方向(Y方向)の周縁部のショット領域S1,1 ,S1,2 ,S1,3 等においては、ウエハWを静止させた座標上でスリット状の照野フィールド6がウエハWの内外から外周部に向けて走査されるようにする。その照野フィールド6付近で検出されるフォーカス位置に基づいてオートフォーカスを行う。

請求項（抜粋）：

転写用パターンの形成されたマスクを交互に逆方向に走査するのに同期して、感光性の基板を走査することにより、前記基板上の複数のショット領域を前記転写パターンの像で順次露光する露光方法において、前記基板の周縁部の全てのショット領域の露光時の走査が前記基板の内側から外側へ行われるように、前記マスクの反転時間内に前記基板が移動可能な距離に基づいて前記複数のショット領域の露光順序を設定することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 B