特許

J-GLOBAL ID：200903069515103983

光ファイバ仮止め方法およびこの方法を実施する装置

発明者： 田井 富茂
出願人/特許権者： 日本航空電子工業株式会社
代理人 (1件)： 草野 卓 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-000893
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199828
出願日： 1999年01月06日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】 光ファイバを半導体基板に対して静電荷相互間の静電気力により仮り止めする光ファイバ仮止め方法およびこの方法を実施する装置を提供する。【解決手段】 光ファイバ1に静電荷を付与すると共に光ファイバ取り付け溝21を形成した半導体基板2に電位を付与して光ファイバ取り付け溝21に光ファイバ1を吸引させる光ファイバ仮止め方法および装置。

請求項（抜粋）：

光ファイバに静電荷を付与すると共に光ファイバ取り付け溝を形成した半導体基板に電位を付与して光ファイバ取り付け溝に光ファイバを吸引させることを特徴とする光ファイバ仮止め方法。

IPC (3件)：

G02B 6/24 ,  G02B 6/00 346 ,  G02B 6/42

FI (3件)：

G02B 6/24 ,  G02B 6/00 346 ,  G02B 6/42

Fターム (9件)：

2H036JA02 ,  2H036LA03 ,  2H036LA07 ,  2H036LA09 ,  2H037BA02 ,  2H037BA11 ,  2H037DA04 ,  2H037DA12 ,  2H038CA52