特許

J-GLOBAL ID：200903069528171830

エキシマレーザー用ミラー

発明者： 白井 健 ,  網干 順治
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-072749
公開番号（公開出願番号）：特開平9-265005
出願日： 1996年03月27日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 λ=160〜300nmの範囲で任意の約40nmの波長範囲のエキシマレーザーに対して95%以上の高反射率を示し、S偏光及びP偏光間で入射角度による反射率の変化が小さく、密着性、耐レーザー性の良好なエキシマレーザー用ミラーを提供する。【解決手段】 少なくとも、基板上に、誘電体膜、金属膜、高屈折率層及び低屈折率層の交互層を順次積層してなるエキシマレーザー用ミラーであって、前記交互層の膜構成がn1L(n1H・n2L)i・n1H・n1L・n2H(n3L・n3H)j・n3L・n2Hであり、かつ光学的膜厚が下記の関係であること。但し、n1L、n2L、n3Lは低屈折率層の屈折率、n1H、n2H、n3Hは高屈折率層の屈折率、i,j=1,2,3・・・、n1L・d1L、n1H・d1H、n2L・d2L、n2H・d2H、n3L・d3L、n3H・d3Hはそれぞれ、膜構成n1L、n1H、n2L、n2H、n3L、n3Hの光学的膜厚である。2n1L・d1L=n1H・d1H=n2L・d2L2n2H・d2H=n3L・d3L=n3H・d3Hn1L・d1L>n2H・d2H

請求項（抜粋）：

少なくとも、基板上に、誘電体膜、金属膜、高屈折率層及び低屈折率層の交互層を順次積層してなるエキシマレーザー用ミラーであって、前記交互層の膜構成がn1L(n1H・n2L)i・n1H・n1L・n2H(n3L・n3H)j・n3L・n2Hであり、かつ光学的膜厚の関係が、2n1L・d1L=n1H・d1H=n2L・d2L2n2H・d2H=n3L・d3L=n3H・d3Hn1L・d1L>n2H・d2Hであることを特徴とするエキシマレーザー用ミラー。但し、n1L、n2L、n3Lは低屈折率層の屈折率、n1H、n2H、n3Hは高屈折率層の屈折率、i,j=1,2,3・・・、n1L・d1L、n1H・d1H、n2L・d2L、n2H・d2H、n3L・d3L、n3H・d3Hはそれぞれ、膜構成n1L、n1H、n2L、n2H、n3L、n3Hの光学的膜厚である。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-208801
  
• 特開平1-310302