特許
J-GLOBAL ID:200903069532395483

遺伝高分子反応方法とその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-137325
公開番号(公開出願番号):特開平6-038758
出願日: 1992年05月28日
公開日(公表日): 1994年02月15日
要約:
【要約】【目的】 DNA、RNA、これらの誘導体、またはこれらの断片(遺伝高分子)を、熱揺らぎを排除して効率良く、かつ正確に酵素的および/または化学的に合成、切断、結合、分析、修復、複製、組換え等の処理するための方法およびその装置を提供する。【構成】 遺伝高分子を、高粘度溶液中および/または電場の存在下で酵素反応または化学反応により処理するための遺伝高分子反応方法、および少なくとも、交流電源1、反応槽2、および反応槽2内の反応溶液6に浸漬され、かつ交流電源1と導線5で結合された電極3,4からなる静電配向式遺伝高分子反応装置。
請求項(抜粋):
DNA、RNA,それらの誘導体、またはそれらの断片を、酵素反応または化学反応により処理する方法において、高粘度溶液中および/または電場の存在下で熱揺らぎを排除して処理を行なうことを特徴とする遺伝高分子反応方法。
IPC (4件):
C12N 15/10 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/42 ,  G01N 33/50

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