走査プローブ顕微鏡チップの使用方法及び該使用方法を実施するための製品又は該使用方法によって製造される製品

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：恩田博宣 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-592858
公開番号（公開出願番号）：特表2002-539955
出願日： 2000年01月07日
公開日（公表日）： 2002年11月26日
要約：

【要約】疎水性化合物で被覆されたチップを備えた原子間力顕微鏡(AFM)。該原子間力顕微鏡(AFM)は、原子間力顕微鏡チップ(AFM)から金基板(AU)へ分子を移動して金基板(AU)上にパターンを書き入れるための、つけペンナノリソグラフィ(DPN)として作動する。

請求項（抜粋）：

ナノリソグラフィ法であって、基板を提供する工程と、走査プローブ顕微鏡チップを提供する工程と、チップをパターニング化合物で被覆する工程と、パターニング化合物を基板に施すことにより所望のパターンを生成すべく、被覆されたチップを基板と接触させる工程とから成る方法。

IPC (4件)：

B81C 1/00 , B82B 3/00 , G01N 13/16 , G12B 21/02

FI (5件)：

B81C 1/00 , B82B 3/00 , G01N 13/16 A , G01N 13/16 C , G12B 1/00 601 A

引用特許：

審査官引用 (7件)

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引用文献：

審査官引用 (1件)

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