特許

J-GLOBAL ID：200903069537705553

粒子ビ-ムの発生並びに粒子ビ-ムの特性の測定及び調節

発明者： メーラン ナサー-ゴッヂ
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-308601
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223436
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】 アパーチャの寸法を変化させて粒子ビームの特性を制御することのできるイオン打ち込み装置及び方法を提供する。【解決手段】 粒子源を含む機器によって粒子ビーム40を発生し、この粒子ビーム40を被加工物の表面に指向させることによって、被加工物を粒子で処理する。ファラデーカップ・アセンブリ60が、粒子ビームを遮断するように配置されていて、粒子ビームの特性を測定する。ファラデーカップ・アセンブリ60は、電荷を収集するファラデーカップ62と、帯電粒子をファラデーカップ62まで通過させるアパーチャ72を有するアパーチャ・アセンブリ70とを備えている。ファラデーカップ60は、帯電粒子を遮断するようにアパーチャ・アセンブリ60に対して配置されている。アパーチャ・アセンブリ60は、アパーチャ72のサイズを変化させるように構成されている。

請求項（抜粋）：

被加工物を粒子で処理する処理装置であって、粒子ビームを発生させて該粒子ビームを被加工物の表面に指向させる粒子源をを含む装置と、前記粒子ビームを遮断して該粒子ビームの特性を測定するように配置された第1のファラデーカップ・アセンブリとを備え、該第1のファラデーカップ・アセンブリは、電荷を収集するためのファラデーカップと、帯電粒子を通過させて該帯電粒子が前記ファラデーカップまで移動するようにする第1のアパーチャを有する可変アパーチャ・アセンブリとを含んでおり、前記ファラデーカップは、前記帯電粒子を遮断するように前記アパーチャ・アセンブリに対して配置されており、前記アパーチャ・アセンブリは、前記第1のアパーチャのサイズを変化させるように構成されていることを特徴とする処理装置。