特許

J-GLOBAL ID：200903069546535792

ホログラフィー複写のための方法および要素

発明者： アーサー ジョン タッギ ,  マーク リーマン アームストロング
出願人/特許権者： イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
代理人 (1件)： 谷 義一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-074575
公開番号（公開出願番号）：特開2000-293091
出願日： 2000年03月16日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】 ニュートン・リング等の干渉に関連する欠陥を持たないホログラムの複写物を製造するホログラムの接触複写方法および要素の提供。【解決手段】 (a) マスターホログラムを含むホログラフィー要素の外側表面に接触させて感光性要素を配置する工程と;(b) 前記感光性要素と前記ホログラフィー要素を、コヒーレント光線に暴露して、それによって前記感光性要素中にホログラムの複製が形成される工程とを具えたホログラムを複写するための方法であって、前記配置する工程は、5から200ナノメートルまでの範囲内のプロフィロメトリーによって測定される表面粗さを有する艶消面を有するホログラフィー要素の外側表面を用いて実施されることを特徴とするホログラムを複写するための方法。

請求項（抜粋）：

(a) マスターホログラムを含むホログラフィー要素の外側表面に接触させて、感光性要素を配置する工程と;(b) 前記感光性要素と前記ホログラフィー要素を、コヒーレント光線に暴露して、それによって前記感光性要素中にホログラムの複製が形成される工程とを具えたホログラムを複写するための方法であって、前記配置する工程は、5から200ナノメートルまでの範囲内のプロフィロメトリーによって測定される表面粗さを有する艶消面を有する前記ホログラフィー要素の前記外側表面を用いて実施されることを特徴とするホログラムを複写するための方法。